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AlCr Sputtering Target, Alta Calidad, Monolítico, Planar, Catódico ARC, Revestimiento PVD, Deposición de Película Delgada, HIP, Polvo Metallurgical, Magnetron AlCr Sputtering Objetivos Fabricante y Proveedor

Haohai Metal ofrece la gama completa de composiciones de los alvos de catalizadores AlCr y cátodos, con la más alta pureza, densidad y homogeneidad. Las rutas de producción de polvo metalúrgico nos permiten introducir otros elementos adicionales para la creación de recubrimientos a medida. Nuestros objetivos de catalizadores AlCr y catodos son particularmente resistentes a la rotura y duraderos, podemos ser su socio más confiable para los materiales AlCr.

Detalles

AlCr Sputtering Target, Alta Calidad, Monolítico, Planar, Catódico ARC, Revestimiento PVD, Deposición de Película Delgada, HIP, Polvo Metallurgical, Magnetron AlCr Sputtering Objetivos Fabricante y Proveedor


ALUMINIO CROMADO


Los revestimientos de AlCrN son ampliamente utilizados para el revestimiento de herramientas, donde se necesita una excelente resistencia al desgaste a altas temperaturas y la mayor resistencia a la oxidación es beneficiosa. Esas propiedades pueden ser aún más pronunciadas por la aleación selectiva con otros elementos. (Al, Cr) 2 O 3 se han introducido recientemente en el mercado del recubrimiento. Estos nuevos tipos de revestimientos de PVD están destinados a competir con los recubrimientos de Al 2 O 3 producidos por CVD. Como el proceso PVD es limitado en temperatura, la formación de alfa-aluminio-óxido puro no es posible todavía. La adición de Cr al material diana da lugar a un crecimiento de mezcla (Al, Cr) 2 O 3 en la estructura de corindón preferida.


Haohai Metal ofrece la gama completa de composiciones de los alvos de catalizadores AlCr y cátodos, con la más alta pureza, densidad y homogeneidad. Las rutas de producción de polvo metalúrgico nos permiten introducir otros elementos adicionales para la creación de recubrimientos a medida. Nuestros objetivos de catalizadores AlCr y catodos son particularmente resistentes a la rotura y duraderos, podemos ser su socio más confiable para los materiales AlCr.


Los objetivos de Sputtering AlCr de Haohai Metal incluyen objetivos de pulverización rectangular, objetivos de pulverización circular y objetivos catódicos.





Aluminio Cromo Planar (Rectángulo, Circular) Sputtering Objetivo


Rango de fabricación

Rectángulo

Longitud (mm)

Ancho (mm)

Espesor (mm)

Hecho a medida

10 - 2000

10 - 600

1,0 - 25

Circular

Diámetro (mm)


Espesor (mm)

10 - 400


1,0 - 25

 

Especificación

Composición [at%]

Al / Cr

30/70, 50/50, 70/30,

Pureza

2N7 (99,7%), 3N (99,9%), 3,5N (99,95%)

Densidad

4,5 g / cm $ ³ $ para 50/50 al%, 3,98 g / cm $ ³ $ para 70/30 al%

Tamaños de grano

<80 micras="" o="" bajo="">

Procesos de Fabricación

Prensado Metálico , Presión Isostática Caliente (HIP), Mecanizado

Forma

Placa, disco, paso, abajo de pernos, roscado, por encargo

Tipo

Objetivo Monolítico, Multi-segmentado, Vinculación

Superficie

Ra 1,6 micras o bajo petición

 

Otras Especificaciones

  Aseguramos la misma dirección de grano en las piezas de construcción de varios segmentos.

  Plano, superficie limpia, pulido, libre de grietas, aceite, punto, etc.

  Alta ductilidad, alta conductividad térmica, microestructura homogénea y alta pureza, etc.




Codos de cromo de aluminio

Suministramos cátodos de arco planar Alunimium Chromium así como objetivos de pulverización planar de Alunimium Chromium




Para nuestros objetivos de bombardeo de cromo de aluminio y cátodos de arco


Tolerancia

Acc. A dibujos o solicitud.


Contenido de impurezas [% en peso]

Aluminio Cromo Pureza [%]

Elementos

70/30 a%, 3N

[99,9]

Impurezas metálicas [μg / g]

Alabama

54.465

Cr

45,1

Fe

0,125

Si

0,215

Cu

0,002

Minnesota

0,004

Impurezas no metálicas [μg / g]

do

0,015

O

0,071
S 0,004

MARIDO

0,002

norte

0,002

Densidad Garantizada [g / cm 3 ]

3,98

Tamaño del Grano [μm]

80

Conductividad térmica [W / (mK)]

-

Coeficiente de expansión térmica [1 / K]

-


Métodos analíticos:

1. Se analizaron elementos metálicos usando GDMS (Precisión y sesgo típico de las mediciones de GDMS se discuten bajo ASTM F1593).

2. Los elementos de gas se analizaron usando el ANALIZADOR DE GAS LECO.

C, S determinado por Combustion-lR

N, H determinado por IGF-TC

O determinado por IGF-NDIR


Solicitud

Solar Fotovoltaica

Displatos de panel plano

Revestimiento resistente al desgaste



Hot Tags: AlCr Sputtering Target, Alta Calidad, Monolítico, Planar, Catódico ARC, PVD Recubrimiento, Deposición de película fina, HIP, polvo metalúrgico, Magnetron AlCr Sputtering Objetivos AlCr Sputtering Target, Bonding, alta calidad, alta pureza, altas tasas de uso
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