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Haohai Metal Meterials Co., Ltd.

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029 3358 2330

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Haohai ofrece silicio Sputter Target, boro habían dopado silicio Farfullar objetivo para la película delgada y aplicaciones tales como óptico, vidrio de gran superficie (Low-E) de la capa para la arquitectura, vidrio automotriz, touch panel vidrio (AR).

Detalles

SILICIO BLANCO DE SPUTTERING

Haohai ofrece silicio Sputter Target, boro habían dopado silicio Farfullar objetivo para la película delgada y aplicaciones tales como óptico, vidrio de gran superficie (Low-E) de la capa para la arquitectura, vidrio automotriz, touch panel vidrio (AR).

HaohaiSilicioFarfulla objetivos incluyenSilicioRotativo de la farfulla objetivos ySilicioobjetivos de pulverización planas.



Silicio rotativo (Rotary, cilíndrico) farfulla objetivos


Gama de fabricación

OD (mm)

ID (mm)

Longitud (mm)

Por encargo

80 - 160

60 - 125

100 - 4000

Especificación

Composición

Si

Pureza

3N (99.9%)

Densidad

2.33 g/cm3

Tamaños de grano

andlt; 150 micrones o a petición

Procesos de fabricación

Plasma de fundición, HPS, rociadura, mecanizado

Forma

Recto, hueso de perro

Tipos de extremo

SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, fijación de extremos GPI, surco de la espiral,

Encargo para SS soporte tubo

Superficie

RA 1.6 micrones

Otra especificación

El vapor desengrasar y desmagnetizadas después del mecanizado final.

ID a ser afilado con PIEDRA y TIERRA OD después tubo crudo se produce para asegurar concentricidad OD ID cumple requisitos de dibujos.

Alto vacío apretado, fuga en cualquier lugar no debe exceder de 1 x 10-8STD CC/SEG.

Sellado de plástico, envuelto en espuma para proteger y extremos capsulados proteger el sello de superficies.


Silicio Planar (rectangular, Circular) blanco de Sputtering

Gama de fabricación

Rectángulo de

Longitud (mm)

Ancho (mm)

Espesor (mm)

Por encargo

10 - 2000

10 - 300

5.0 - 40

Circular

Diámetro (mm)


Espesor (mm)

5.0 - 300


5.0 - 40


Especificación

Composición

Si (boro dopado)

Pureza

3N (99.9%),4N (99.99%), 5N (99.999%)

Densidad

2.33 g/cm3

Tamaños de grano

andlt; 150 micrones o a petición

Procesos de fabricación

Fundición, mecanizado, vinculación

Forma

Multi-dividido en segmentos objetivo, la vinculación en la placa de respaldo de Cu

Tipos

Placa, disco, de paso, abajo se emperna, Threading, por encargo

Superficie

RA 1.6 micrones

Otras especificaciones

Llanura, superficie limpia lisa, pulida, libre de aceite, punto, crack, etc..

Excelentes conducciones, coeficiente de dilatación lineal pequeña y buena resistencia al calor.



Para el silicio Haohai farfulla objetivos

TolCE

Según los dibujos o a petición.

Producción de farfulla objetivos de lámpara o boro silicio dopado incluye crecimiento de CZ de lingotes con análisis recocido, material, corte y mecanizado.

Placas de respaldo y servicio de vinculación

Haohai proporcionan muchos cobre OFHC estándar respaldo placas para sputtering comercialmente disponibles y sistemas de deposición catódica del arco, así como diseños personalizados. Azulejos metálicos y Epoxy adhesivo de silicio está disponible.

Contenido de impurezas [ppm]

Contenido de silicio [ppm]


Si

Pureza [%]


99.9

Impurezas metálicas [ppm]

Al

500

CA

25

CR

30

Cu

50

Fe

150

MN

20

Ni

30

Impurezas no metálicas [ppm]

N

300

O

6000

Resistividad [ohm.cm] 20


andlt; 20

Garantizada la densidad [g/cm3]


2.2

Tamaño de grano [μm]


150


Aplicación

Gran capa de vidrio

Industria de la exhibición

Capa óptica

Solar YAMP; Industria fotovoltaica



Haohai Metal, equipado con fábrica de profesionales, es uno de los principales fabricantes y proveedores de distintos tamaños de los productos de la vinculación. Somos un silicio farfulla objetivos alta pureza, monolítico, plana, disco, dopaje de tipo n, vinculación, recubrimiento pvd, deposición de película delgada, si de magnetrón sputtering objetivos fabricante y proveedor. Bienvenidos a compra y venta por mayor nuestros productos con precio bajo, alto uso, alta pureza y alta calidad con nuestros productores.

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