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Metal Sputtering Target High Material Industria

Objetivo de pulverización metálica

Los requerimientos de sputtering de metal son mayores que los de la industria de materiales tradicionales. Requisitos generales tales como tamaño, planitud, pureza, contenido de impurezas, densidad, N / O / C / S, tamaño de grano y control de defectos; Requisitos más altos o requisitos especiales incluyen:

La rugosidad superficial, la resistencia, la uniformidad del tamaño del grano, la uniformidad de la composición y de la organización, el contenido y el tamaño de la materia extranjera (óxido), la permeabilidad, la ultra-alta densidad y el grano ultrafino y así sucesivamente.

Metal sputtering target es un nuevo tipo de método de recubrimiento de vapor físico es utilizar el sistema de pistola de electrones a los electrones y centrarse en el material que se está chapado, de modo que la pulverización de los átomos siguen el principio de conversión de momento con una alta energía cinética de la mosca material The Se depositó una película sobre el sustrato. Este tipo de material plateado se llama blanco de pulverización. Los objetivos de pulverización catódica son metales, aleaciones, cerámicas, boruros y similares.

Aplicación principal del catalizador de metal

Metal sputtering objetivo se utiliza principalmente en la industria electrónica y de la información, tales como circuitos integrados, almacenamiento de información, pantalla de cristal líquido, memoria láser, dispositivos de control electrónico, etc .; También se puede utilizar en el campo del revestimiento de vidrio; También se puede utilizar en materiales resistentes al desgaste, High-end decorativos suministros y otras industrias.