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Blancos de la farfulla metal se utilizan principalmente en la electrónica y las industrias de la información

Metal farfulla objetivos se utilizan principalmente en la electrónica y las industrias de la información, tales como circuitos integrados, almacenamiento de información, pantalla de cristal líquido, laser memoria, dispositivos de control electrónicos, etcetera.; puede utilizarse también en el campo de la capa de cristal; también puede ser utilizado en materiales wear-resistant, High-End suministros decorativos y otras industrias.

Según la forma se puede dividir en objetivo largo, blanco cuadrado blancos de la farfulla de Metal, blanco redondo, en forma de objetivo

Según la composición se puede dividir en metal blanco, objetivo de aleación, cerámica blanco compuesto

Según la aplicación de diferentes se divide en blanco cerámica relacionados con semiconductores, grabación medio blanco cerámica, pantalla blanco cerámica, blanco cerámica superconductora y Magnetorresistencia gigante blanco cerámica

Según el campo de aplicación, se divide en Microelectrónica objetivo destino de grabación magnética, disco óptico blanco, metal precioso blanco, blanco resistente película delgada, blanco película conductora, superficie modificada target, objetivo de la máscara, capa decorativa destino, destino de electrodo, destino del paquete, otro objetivo

Principio de la farfulla del magnetrón: en el blanco de sputtering (cátodo) y el ánodo entre la adición de un campo magnético ortogonal y campo eléctrico, Metal farfulla objetivos en la alta cámara de vacío lleno del gas inerte requerido (generalmente gas Ar), imán permanente en el destino de la superficie del material para formar un campo magnético de 250 ~ 350 Gauss, con el campo eléctrico de alta tensión compuesta del campo electromagnético ortogonal. Bajo la acción del campo eléctrico, gas Ar se ioniza en iones positivos y electrones, el blanco se añade con cierta presión alta negativa, los electrones emitidos por el blanco se ven afectados por el campo magnético y la probabilidad de la ionización de lo funciona aumentos de gas ng, formando un plasma de alta densidad en las cercanías del cátodo, el cuerpo, los iones de Ar en el papel de la fuerza de Lorentz para acelerar el vuelo a la superficie del blanco, Metal farfulla objetivos en un bombardeo de alta velocidad de la superficie del blanco, para que la pulverización de los átomos del blanco siga el principio de conversión de impulso con una alta energía cinética de la marcha del destino el substrato es depositado y depositado. Farfulla del magnetrón se divide generalmente en dos clases: tributario farfulla y RF sputtering, que tributario equipo de sputtering es sencillo, en el chisporroteo del metal, su tasa es también rápida. El uso de RF de la farfulla es más extensos, además de material conductor farfulla, pero también farfulla materiales no conductores, mientras que el Departamento de preparación farfulla reactiva de óxidos, nitruros y carburos y otros compuestos. Si la frecuencia de RF aumenta después de una pulverización de plasma de microondas, Metal farfulla objetivos utilizan electrónica ciclotrón resonancia (ECR) tipo microondas plasma farfulla.